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  • 膜厚監測儀--EQ-TM106

    EQ-TM106膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理,結合先進的頻率測量技術,進行膜厚的在線監測。主要應用于MBE、OLED熱蒸發、磁控濺射等設備的薄膜制備過程中,對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。根據實時速率可以輸出PWM模擬量,作為膜厚傳感器使用,與調節儀和蒸發電源配合實現蒸發源的閉環速率控制。

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-21
  • 500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2DC

    VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-21
  • 300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF

    VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-21
  • 1英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀--VTC-1RF

    VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

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    更新日期:2024-02-21
  • VTC-600-2HD型雙靶磁控濺射儀

    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。

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    更新日期:2024-02-21
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