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  • OTF-1200X-5L-R-CVD5英寸旋轉CVD管式爐

    OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋轉CVD爐。爐體有3個加熱區,可提高溫度均勻性,同時配有4通道的精密混氣系統。此款管式爐設計主要用于電池粉體材料表面包覆或其他粉體材料表面修飾。設備相關論文(點擊查看)

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    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-22
  • OTF-1200X-4-R-II-AF1200℃ 4英寸雙溫區回轉CVD管式爐

    OTF-1200X-4-R-II-AF是一款4英寸雙溫區回轉CVD管,安裝有自動送料器和收料罐。自動可定份額地將粉料送入到爐管中,此過程可在氣氛保護環境下進行,可實現用連續CVD方法對粉體材料進行包覆和修飾。收料罐可在氣氛保護環境下對處理好的粉料進行收集。此款管式爐設計主要是在鋰離子電池的陰極材料(如LiFePO3, LiMnNiO3)上包覆導電層,同時也可用CVD方式制備 Si/C 陽極材料。

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    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-22
  • OTF-1200X-50-II-PE-MPECVD管式爐(帶有預熱系統的滑動)

    OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PE-CVD管式爐系統,組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐,預熱爐(作用為使固體原料蒸發)和德國進口的無油泵。此款PE-CVD對于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

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    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-22
  • TCVD--OTF-1200X-S2-50SL小型雙爐體滑動管式爐

    OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐,爐管為Φ50×1400mm的石英管,并配有不銹鋼密封法蘭,儀器Z高溫度可以達到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動,實現對原材料的蒸發/升華,及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現對樣品快速加熱,Z大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質量流量計(MFC)控制的供氣系統和等離子射頻電源來搭建TCVD系統。

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    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-22
  • 1700°C二通道混氣高真空CVD系統-GSL-1700X-4-HVC

    GSL-1700X-4-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統,其爐管直徑為4英寸,它是由二路質子混氣系統和高真空機組組成,其Z高工作溫度可達1600℃,極限真空度可達 to 10^-5 torr?;鞖庀到y可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導入到管式爐內部。

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  • 1200°C二通道混氣高真空CVD系統-OTF-1200X-HVC

    OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-單溫區管式爐,二路質子混氣系統和高真空機組組成。其Z高工作溫度可達1200℃,極限真空度可達 to 10^-5 torr?;鞖庀到y可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導入到管式爐內部。

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-22
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