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直流等離子磁控濺射鍍膜儀

簡要描述:直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

  • 產品型號:VTC-2DC
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-02-22
  • 訪  問  量:3125

詳細介紹

直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。
用直流磁控濺射儀可獲得單相Al

 直流等離子磁控濺射鍍膜儀技術參數

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 1000W  (包括真空泵)

等離子源

  • 一個500W,600V的直流電源安裝在移動柜內(點擊圖片查看詳細資料)

磁控濺射頭

  • 一個2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
  • 靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
  • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作,見圖左3)
  • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機)
  • 同時可選配1英寸濺射頭
       

真空腔體

  • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
  • 一個不銹鋼網罩住整個石英腔體,以屏蔽等離子體
  • 真空度:10-3 Torr (采用雙極旋片真空泵), 10-5 torr (采渦旋分子泵)

載樣臺

  • 載樣臺可旋轉(為了制膜更加均勻)并可加熱
  • 載樣臺尺寸:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉速度:1 - 20 rpm
  • 樣品的zui高加熱溫度為700℃,(短期使用,恒溫不超過1小時),長期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃

真空泵

可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統
      

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  
  • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據
     

外形尺寸

     

重量 70Kg

質保和質量認證

  • 一年質保期,終生維護
  • CE認證

使用注意事項

  • 為了得到較好的金屬膜,特別是針對易氧化的金屬,如Al, Mg和Li等,必須通入高純惰性氣體(> 5N)
  • 強烈建議采用PPM極的氣體凈化系統(將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統過后,再導入到真空腔體內)
  • 我們也可在設備中安裝射頻(RF)電源,用于濺射非導電靶材,來制備非金屬薄膜
      

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