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  • OTF-1200X-5L-R-CVD5英寸旋轉CVD管式爐

    OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋轉CVD爐。爐體有3個加熱區,可提高溫度均勻性,同時配有4通道的精密混氣系統。此款管式爐設計主要用于電池粉體材料表面包覆或其他粉體材料表面修飾。設備相關論文(點擊查看)

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-22
  • OTF-1200X-4-R-II-AF1200℃ 4英寸雙溫區回轉CVD管式爐

    OTF-1200X-4-R-II-AF是一款4英寸雙溫區回轉CVD管,安裝有自動送料器和收料罐。自動可定份額地將粉料送入到爐管中,此過程可在氣氛保護環境下進行,可實現用連續CVD方法對粉體材料進行包覆和修飾。收料罐可在氣氛保護環境下對處理好的粉料進行收集。此款管式爐設計主要是在鋰離子電池的陰極材料(如LiFePO3, LiMnNiO3)上包覆導電層,同時也可用CVD方式制備 Si/C 陽極材料。

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    更新日期:2024-02-22
  • TCVD--OTF-1200X-S2-50SL小型雙爐體滑動管式爐

    OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐,爐管為Φ50×1400mm的石英管,并配有不銹鋼密封法蘭,儀器Z高溫度可以達到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動,實現對原材料的蒸發/升華,及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現對樣品快速加熱,Z大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質量流量計(MFC)控制的供氣系統和等離子射頻電源來搭建TCVD系統。

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    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-02-22
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